СТРУКТУРНІ ОСОБЛИВОСТІ РЕНТГЕНІВСЬКИХ ДЗЕРКАЛ W/Mg2Si
DOI:
https://doi.org/10.20998/2413-4295.2023.02.13Ключові слова:
структура, багатошарові рентгенівські дзеркала, електронна мікроскопія, рентгенодифракція, перемішані зони, оптичні властивостіАнотація
Досліджено структуру багатошарових рентгенівських дзеркал (БРД) W/Mg2Si за допомогою електронно-мікроскопічних та рентгенодифракційних методів. Виявлено, що при виготовленні цих дзеркал спостерігається міжшарова взаємодія, при якій у сильно поглинаючому шарі формується змішана зона на границі Mg2Si-на-W із силіциду вольфраму. Товщина шарів, що складають період дзеркала, визначає склад змішаної зони: у дзеркалі з періодом 3.1 нм формується зона силіциду вольфраму з найменшим вмістом кремнію, а у дзеркалі з періодом 14.2 нм склад змішаної зони схожий до WSi2. Щільність змішаних зон у дзеркалі з періодами 3.1 нм та 14.2 нм складає 16.1 г/см3 та 8.2 г/см3 відповідно. Оцінено оптичні властивості БРД W/Mg2Si, показано, що на довжині хвилі 9.89 нм відбивна здатність неоптимізованого БРД W/Mg2Si порівнянна з оптимізованим БРД W/B4C. Дослідження виявили, що метод магнетронного розпилення дозволяє отримати високоідеальні мультишарові дзеркала W/Mg2Si з періодом приблизно 3 нм. Застосування малокутової рентгенівської дифракції та електронної мікроскопії підтверджує утворення структури з заданою періодичністю та середньоквадратичною шероховатістю, яка вважається прийнятною для дзеркал з даною періодом. Особливість утворення дзеркал полягає в міжшаровій взаємодії під час виробництва, що призводить до утворення перемішаної зони в сильнопоглиблюючому шарі. Склад та ширина цієї зони залежать від товщини шарів, і при збільшенні періоду дзеркал склад змінюється. Моделювання дифракційних спектрів підтверджує властивості перемішаних зон для різних періодів. Дослідження також вказують на можливість підвищення відбивної здатності дзеркал W/Mg2Si на 10% шляхом оптимізації співвідношення товщин шарів. Неоптимізовані дзеркала показали порівнянну відбивну здатність з дзеркалами W/B4C, але з певною перевагою на довжині хвилі Na-Kα.
Посилання
Spiller E. Low‐Loss Reflection Coatings Using Absorbing Materials. Appl. Phys. Lett., 1972, Vol. 20, No. 9, pp. 365-367.
Blokhin M. A., Schweitzer I. G. X-ray Spectral Handbook. Moscow. Nauka, 1982. 376 p.
Yongwei Dong. The x-ray timing and polarization satellite - 1, 2, 3: uncovering the mysteries of black holes and extreme physics in the universe. Proc. of SPIE, 2014, Vol. 9144, pp. 91443O-1–91443O-7.
David L. Windt. Reduction of stress and roughness by reactive sputtering in W/B4C X-ray multilayer films. Proc. of SPIE, 2007, Vol. 6688, pp. 66880R-1–66880R-10.
Kristin K. Madsen, Fiona A. Harrison, Peter H. Mao, Finn E. Christensen, Carsten P. Jensen, Nicolai Brejnholt, Jason Koglin, Michael J. Pivovaroffd. Optimizations of Pt/SiC and W/Si multilayers for the Nuclear Spectroscopic Telescope Array. Proc. of SPIE, 2009, Vol. 7437, pp. 743716-1– 743716-11.
Michaelsen C., Ricardo P., Anders D. Improved graded multilayer mirrors for XRD applications. Adv. X-Ray Anal., 2000, Vol. 42, pp. 308–320.
Available at: http://cxro.lbl.gov/
Platonov Y., Kazuaki Shimizu, Hiroshi Kobayashi, Gary Fournier, Jim Rodriguez. Mg2Si-based multilayer XRF analyzers with two- and three-layer structure design. Adv. X-Ray Anal., 2009, Vol. 52, pp. 129–134.
Pershin Y. P., Devizenko A. Y., Mamon V. V., Chumak V. S., Kondratenko V. V. Structure, phase composition, and growth model of amorphous multilayer X-ray mirrors W-Si, fabricated by magnetron sputtering. JFIP, 2016, Vol.1, No.6, pp. 27–41.
Kopylets I. A., Kondratenko V. V., Zubarev E. N., Roshchupkin D. V. Features of short-period multilayer compositions W/B4C formation. JTF, 2012, Vol. 82, issue 12, pp. 101–107.
Pierre Boher, Philippe Houdy, Kuhne M., Muller P., Barchewitz R., Delaboudiniere P., David Smith. Tungsten/Magnesium Silicide Multilayers for Soft X-Ray Optics. J. X-ray Sci. Technol., 1992, Vol. 3, No. 2, pp. 118–132.
Available at: http://sci-progs.com/
State diagrams of binary metallic systems. Handbook. Ed. N. P. Lyakishev. Moscow. Mashinostroenie, 2001, Vol. 3, Book 1. P. 872.
Konotopsky L. E., Kopylets I. A., Sevryukova V. A., Zubarev E. N., Kondratenko V. V. Features of nanoscale Mg2Si layer growth in Si/Mg2Si multilayer X-ray mirrors. J. Nano-Electron. Phys., 2016, Vol. 8, No. 2, pp. 02021-1-02021-6.
Properties, production, and application of refractory compounds. Handbook. Ed. T. Ya. Kosolapova. Moscow. Metallurgiya, 1986. 928 p.
Myurarka Sh. Silicides for ICs. Moscow. Mir, 1986. 176 p.
Available at: http://www.ukrrentgen.kharkiv.com/
##submission.downloads##
Опубліковано
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право (c) 2024 Леонід Конотопський , Сергій Суровицький, Ксенія Мінакова
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Журнал публікує статті згідно з ліцензією Creative Commons Attribution International CC-BY.