Оценка чувствительности измерителя контактной разности потенциалов
Анотація
Запропоновано аналітичне рівняння, що встановлює взаємозв'язок між чутливістю вимірювача контактної різниці потенціалів, побудованого за методом динамічного конденсатора і основними його геометричними й електричними параметрами, до яких належать амплітуда і частота коливань зонда, робоча площина зонда, відстань у статичному положенні між робочою поверхнею зонда і досліджуваним зразком, а також навантажувальний опір. Розглянуто основні причини зниження чутливості вимірювачів контактної різниці потенціалів і засобів його підвищення.Посилання
Ривьере Х. Работа выхода. Измерения и результаты / Х. Ривьере // Поверхностные свойства твердых тел: сборник статей; под ред. М. Грина. – М.: Мир, 1972. – 432 с.
Царев Б. М. Контактная разность потенциалов / Царев Б. М. – М.: ГИТТЛ, 1955. – 280 с.
Компанеец И. В. Физические основы конденсаторных методов измерения контактной разности потенциалов / И. В. Компанеец // Вестник НТУ «ХПИ». Тематический выпуск «Автоматика и приборостроение», 2009. – №23. - С. 89-95.
Zisman W. A. A new method of measuring contact potential differences in Metals / W. A. Zisman // Rev. Sci. Instrum. – 1932. – №3. – p. 367-370.
Илюкович А. М. Техника электрометрии / А. М. Илюкович. - М.: Энергия, 1976. - 400 с.
Вудраф Д. Современные методы исследования поверхности. / Д. Вудраф, Т. Далчар; пер. с англ. Е. Ф. Шека под редакцией В. И. Раховского – М.: Мир, 1989. – 564 с.
Шкилько А. М. Экзоэмиссионная диагностика поверхности конструкционных материалов: монография / А. М. Шкилько. – Харьков: Ноулидж, 2009. – 244 с.
Baikie I. D. Noise and the Kelvin method / I. D. Baikie, S. Mackenzie, P. J. Z. Estrup, J. A. Meyer // Rev. Sci. Instrum. – 1991. - №62(5). – P. 1326-1332.
Rossi F. Contact potential measurement: Spacing dependent errors / F. Rossi // Rev. Sci. Instrum. – 1992. - №63(9). – P. 4174-4181.
Де Бур Анализ и усовершенствование метода Кельвина для измерения разностей работ выхода / Де Бур, Круземейер, Ясперс // Приборы для научных исследований. – 1979. - №8. – С. 74-81.
D’Arcy R. J. The effects of stray capacitance on the Kelvin method for measuring contact potential difference. / R. J. D’Arcy, N. A. Surplice. // J. Phys. D: Appl. Phys. – 1970. – №3. – Р. 482-488.
Коротких В. Л. Манипулятор для измерения контактной разности потенциалов методом Кельвина / В. Л. Коротких, А. Д. Коринфский, А. Л. Мусатов // Приборы и техника эксперимента. – 1977. - №2. – С. 211-212.
Jacobs H. O. Resolution and contrast in Kelvin probe force microscopy / H. O. Jacobs, P. Leuchtmann, O. J. Homan, A. Stemmer // Journal of applied physics. – 1998. – V. 84, №3. – P. 1168-1173.
Rosenwaks Y. Kelvin probe force microscopy of semiconductor surface defects / Y. Rosenwaks, R. Shikler // Physical Review. – 2004. – B70, №085320 – P. 1-6.
Soonckind L. Sur l’utilisation de la methode de Kekvin pour l’etude des travaux de sortie des surfaces inhomogenes / L. Soonckind, J. Bonnet, L. Lassabatere // Revue de physique appliquée. – 1979. – V. 14, №8. – P. 795-798.
##submission.downloads##
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Журнал публікує статті згідно з ліцензією Creative Commons Attribution International CC-BY.
